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freiberg弗萊貝格MDpicts微瞬態(tài)譜儀

簡要描述:

freiberg弗萊貝格MDpicts微瞬態(tài)譜儀微波探測光誘導電流瞬態(tài)譜儀對于半導體材料少子壽命,電學參數(shù)和界面陷阱等進行非接觸和非破壞性測試

更新時間:2023-06-15

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freiberg弗萊貝格MDpicts微瞬態(tài)譜儀

 微波探測光誘導電流瞬態(tài)譜儀對于半導體材料少子壽命,電學參數(shù)和界面陷阱等進行非接觸和非破壞性測試。硅| 化合物半導體 | 氧化物| 寬帶隙材料| 鈣鈦礦 | 外延層

半導體材料的基礎(chǔ)研究和開發(fā)
配置選項
靈敏度:對半導體材料電學缺陷有高靈敏度
溫度范圍:液氮(77K)到500K,可選:液氦(4K)或更高的溫度
衰減常數(shù)范圍:20ns到幾十ms
玷污檢測:電學陷阱基本性能確定:
激活能和陷阱的俘獲截面,受溫度和注入水平影響的少子壽命參數(shù)等
重復性:>99.5%,測試時間< 6 0 分 鐘 ,液氮消耗:2L/run
靈活性: 從365nm到1480nm,根據(jù)不同材料選擇不同波長的激發(fā)光源
輔助功能:基于IP的系統(tǒng),允許在任何地方進行遠程操作和技術(shù)支持

半導體材料性能研究和開發(fā)

+  半導體材料質(zhì)量控制
+  缺陷種類確定:激活能,俘獲截面等參數(shù)

freiberg弗萊貝格MDpicts微瞬態(tài)譜儀

測試原理

MDpicts采用*的光誘導電流瞬態(tài)譜測試技術(shù)(PICTS)是非接觸測試并具備更高的靈敏度,在各種半導體材料研究中開辟了新的應(yīng)用。這個技術(shù)對半導體材料中的電學缺陷行為,可以提供與D L T S 技術(shù)相媲美的靈敏度,并給出載流子陷阱在材料中的主要復合中心。

 

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